特許
J-GLOBAL ID：200903010017530209
レジスト塗布組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-276290
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130665
出願日： 1992年10月14日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 (1)アルカリ可溶性樹脂、(2)感放射線性酸形成剤、(3)酸の存在下で分解されて(1)のアルカリ可溶性樹脂に対するアルカリ溶解性制御効果を低下もしくは消失するかまたは促進する性質を発現する化合物、または(1)のアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物および(4)溶媒として下記構造式(i)R1-CO-R2 (i)(ここで、R1およびR2は、同一もしくは異なり、両者の炭素数の合計が5〜12となる炭化水素基であるかあるいはR1とR2は互いに結合してそれらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい、)で示される化合物を含有するポジ型又はネガ型レジスト塗布組成物。【効果】 塗布性、保存安定性、パターン形状などの性能に優れたレジスト塗布組成物として遠紫外線、X線、電子線などの放射線のいずれにも対応できるので、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造用のレジストとして有用である。
請求項（抜粋）：
(1)アルカリ可溶性樹脂、(2)感放射線性酸形成剤、(3)(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を制御する性質を有し、そして酸の存在下で分解されて(1)のアルカリ可溶性樹脂に対するアルカリ溶解性制御効果を低下もしくは消失する性質または(1)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を促進する性質を発現する化合物、および(4)溶媒として下記構造式(i)R1-CO-R2 (i)ここで、R1およびR2は、同一もしくは異なり、両者の炭素数の合計が5〜12となる炭化水素基であるかあるいはR1とR2は互いに結合してそれらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい、で示される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト塗布組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
