特許

J-GLOBAL ID：200903010023001722

基板処理装置

発明者： 志摩 泰正
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-326503
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162919
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 薬液ポンプ20から薬液ノズル16に供給する薬液の流量を制限した場合でも、薬液ポンプ20以降の薬液の温度上昇を抑える。【解決手段】 この装置は、薬液処理槽15と、薬液処理槽15に設けられた薬液ノズル16と、薬液を貯留する薬液タンク18と、薬液タンク18の薬液を薬液ノズル16に供給するための薬液ポンプ20と、調圧バルブ21と、薬液逃がし管路22及び逃がしバルブ23とを備えている。調圧バルブ21は、薬液ポンプ20と薬液ノズル16との間に設けられ、薬液ノズル16への薬液供給量を制御する。薬液逃がし管路22及び逃がしバルブ23は、薬液ポンプ20と調圧バルブ21との間に設けられ、調圧バルブ21を介して薬液ノズル16に供給される薬液以外の薬液を逃がす。

請求項（抜粋）：

基板に薬液を供給して処理する基板処理装置であって、処理すべき基板が収容される処理槽と、前記処理槽に設けられ、前記基板に対して薬液を吐出する吐出部材と、薬液を貯留する薬液貯留部と、前記薬液貯留部の薬液を前記吐出部材に供給するための薬液ポンプと、前記薬液ポンプと吐出部材との間に設けられ、前記吐出部材への薬液供給量を制御するための薬液流量制御手段と、前記薬液ポンプと薬液流量制御手段との間に設けられ、前記薬液流量制御手段を介して前記吐出部材に供給される薬液以外の薬液を逃がす薬液逃がし手段と、を備えた基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 651 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/30 502 ,  B08B 3/04

FI (6件)：

H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 651 G ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/30 502 ,  B08B 3/04 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 化学反応装置とその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-246073   出願人：松下電器産業株式会社
• ワークの洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-289618   出願人：スピードファムクリーンシステム株式会社