特許
J-GLOBAL ID：200903010060032646

層構造体及びその製造方法

発明者：
田中 秀康

田中 秀康 について


出願人/特許権者：
旭化成株式会社

旭化成株式会社 について


代理人 (3件)： 森 哲也 ,  内藤 嘉昭 ,  崔 秀▲てつ▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-165140
公開番号（公開出願番号）：特開2007-022075
出願日： 2006年06月14日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】極めて高い酸素および水蒸気の遮断性を有する層構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 層構造体は複数の層を積層してなり、粘土薄膜層1と無機薄膜層2とをそれぞれ1層以上有するものである。粘土薄膜層1は、粘土を主要成分とし、粘土粒子が高度に配向して積層した構造を有し、自立膜として利用可能な機械的強度を有する。また、無機薄膜層2は、シリコン及びアルミニウムの少なくとも一方を含む無機化合物を主要成分とする。無機薄膜層2は粘土薄膜層1に隣接して積層してもよいし、バッファ層3のような他層を介して積層してもよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の層を積層してなる層構造体において、粘土を主要成分とし且つ粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜層と、シリコン及びアルミニウムの少なくとも一方を含む無機化合物を主要成分とする無機薄膜層と、をそれぞれ1層以上有することを特徴とする層構造体。
IPC (3件)：
B32B 9/04 ,  B32B 18/00 ,  H05K 1/03
FI (3件)：
B32B9/04 ,  B32B18/00 Z ,  H05K1/03 610B
Fターム (46件)：
4F100AA12B ,  4F100AA12C ,  4F100AA13B ,  4F100AA13C ,  4F100AA19B ,  4F100AA19C ,  4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AC03A ,  4F100AC05A ,  4F100AK52B ,  4F100AK52C ,  4F100AK79B ,  4F100AK79C ,  4F100BA03 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100DE01A ,  4F100EH46B ,  4F100EH46C ,  4F100EH66B ,  4F100EH66C ,  4F100EJ48B ,  4F100EJ48C ,  4F100GB41 ,  4F100JA20A ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4F100JN01 ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4G073BA02 ,  4G073BA63 ,  4G073BA69 ,  4G073BD15 ,  4G073BD18 ,  4G073CM15 ,  4G073CM19 ,  4G073CM20 ,  4G073CM21 ,  4G073CM22 ,  4G073CN06 ,  4G073FB01 ,  4G073FB29 ,  4G073FD27 ,  4G073UB11
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • ガスバリアフィルム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-313677   出願人：凸版印刷株式会社
  • 有機EL素子
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-299276   出願人：ティーディーケイ株式会社
審査官引用 (6件)
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