特許
J-GLOBAL ID:200903062625505357
SiO2 被覆プラスチックフィルム及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保田 耕平 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-249374
公開番号(公開出願番号):特開平8-112879
出願日: 1994年10月14日
公開日(公表日): 1996年05月07日
要約:
【要約】【目的】 SiO2 被覆プラスチックフィルムとその製造方法を提供する。【構成】 本発明のSiO2 被覆プラスチックフィルムは、プラスチックフィルムの少なくとも片面上にポリシラザンをセラミックス化して形成した窒素を原子百分率で0.05〜5%含有するSiO2 膜を有する。本発明の製造方法は、プラスチックフィルムの少なくとも片面上にポリシラザンの膜を形成して該膜をセラミックス化する工程を含む。
請求項(抜粋):
プラスチックフィルムの少なくとも片面上にポリシラザンをセラミックス化して形成した窒素を原子百分率で0.05〜5%含有するSiO2 膜を有することを特徴とするSiO2 被覆プラスチックフィルム。
IPC (3件):
B32B 9/00
, B32B 27/06
, C08J 7/06
引用特許:
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