特許

J-GLOBAL ID：200903010098087460

付着液除去装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-004229
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204490
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】 基板の垂れを抑えて基板に付着している処理液の除去の効率を向上させる。【解決手段】 付着液除去装置120は、洗浄液が付着した基板Wに気体を吹き付けることにより洗浄液を基板Wから吹き飛ばして基板Wに付着した洗浄液を除去する装置において、複数の搬送ローラ5と、エアーナイフ25,26と、補助ローラ組立体41,42とを備えている。搬送ローラ5は基板Wを支持しつつ搬送する。エアーナイフ25,26は、基板Wに気体を吹き付ける手段であって、搬送ローラ5の間に、基板搬送方向と交差する方向に延設されている。補助ローラ組立体41,42は、エアーナイフ25,26に隣接しており、基板Wの下面を支持して基板Wの変形を抑える。

請求項（抜粋）：

処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、基板を支持しつつ搬送する複数の搬送手段と、前記搬送手段の間に基板搬送方向と交差する方向に延設され、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段と、前記気体吹付手段に隣接し、基板の下面を支持して基板の変形を抑える補助支持手段と、を備えた付着液除去装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 651 G

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 基板の液切り装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-119200   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭63-015421
  

審査官引用 (3件)

• 基板の液切り装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-119200   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭63-015421
  
• 特開昭63-015421