特許

J-GLOBAL ID：200903010105947454

プラズマ処理装置

発明者： 奥村 智洋 ,  中山 一郎 ,  柳 義弘
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-219323
公開番号（公開出願番号）：特開平8-083696
出願日： 1994年09月14日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】【目的】 高周波誘導結合方式プラズマ処理装置において、放電コイル用マッチング回路のマッチング用並列コイルによる電力効率の低下を小さくし、温度上昇を小さくする。【構成】 真空容器と、基板電極と、放電コイルと、高周波電源と、放電コイルに導線にて接続されるとともに高周波電源に接続ケーブルにて接続されたマッチング回路とを備え、放電コイルに高周波電圧を印加することにより真空容器内にプラズマを発生させて基板電極上の基板を処理するプラズマ処理装置において、放電コイルを、一部又は全部が多重渦形の放電コイル1又は多重螺旋形の放電コイルにて構成した。

請求項（抜粋）：

真空容器と、基板電極と、放電コイルと、高周波電源と、放電コイルに導線にて接続され高周波電源に接続ケーブルにて接続されたマッチング回路とを備え、放電コイルに高周波電圧を印加することにより真空容器内にプラズマを発生させて基板電極上の基板を処理するプラズマ処理装置において、放電コイルをその一部又は全部を多重の渦形にしたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-057600
  
• プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-013981   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ発生電極装置およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-165624   出願人：日本碍子株式会社
• プラズマ生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-216232   出願人：住友金属工業株式会社