特許
J-GLOBAL ID：200903010127433063
オゾン処理方法および処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094430
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288562
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】 オゾン処理に随伴する臭素酸イオンの生成を抑制する。【解決手段】 臭素イオンを含んだ被処理水にオゾン注入して有機物等の処理対象物をオゾン酸化するに際し、含オゾン被処理水にUV照射することにより過剰のオゾンを分解し、臭素酸イオンの生成を抑制する。
請求項（抜粋）：
被処理水にオゾン注入して有機物等の処理対象物をオゾン酸化するに際し、オゾン処理水にUV照射することにより過剰のオゾンを分解し、溶存臭素からの臭素酸イオンの生成を抑制することを特徴とするオゾン処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (22件)：
4D037AA01
, 4D037AB04
, 4D037AB11
, 4D037AB13
, 4D037AB14
, 4D037BA18
, 4D037BB05
, 4D037CA02
, 4D037CA08
, 4D037CA12
, 4D050AA03
, 4D050AB04
, 4D050AB11
, 4D050AB16
, 4D050AB19
, 4D050BB02
, 4D050BC09
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050CA15
, 4D050CA16
