水処理方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：篠部正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295708
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117274
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】反応槽内のCT値を速やかに制御して被処理水中の臭素酸の生成量を基準値以下に抑制する水処理方法および水処理装置を得る。【解決手段】接触槽と、滞留槽のそれぞれの内部を流れる被処理水中の溶存オゾン濃度を監視して被処理水の槽内溶存オゾン濃度Cと被処理水の槽内滞留時間Tの積であるCT値の総和を常時計算し、CT値の総和が予め設定された範囲を超えた際に、溶存オゾン分解装置を佐藤させ接触槽と滞留槽のいずれか一つの槽内を流れる被処理水中の溶存オゾンを分解する。

請求項（抜粋）：

被処理水にオゾンガスを導入して浄化処理を行う水処理方法において、被処理水とオゾンガスを接触,混合する接触槽と、被処理水中に溶解したオゾンと有機物との反応時間を確保する滞留槽のそれぞれの内部を流れる被処理水中の溶存オゾン濃度を監視して被処理水の槽内溶存オゾン濃度Cと被処理水の槽内滞留時間Tの積であるCT値の総和を常時計算し、CT値の総和が予め設定された範囲を超えた際に、溶存オゾン分解装置を作動させ接触槽と滞留槽のいずれか一つの槽内を流れる被処理水中の溶存オゾンを分解することを特徴とする水処理方法。

IPC (8件)：

C02F 1/78 , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 540 , C02F 1/50 550 , C02F 1/58

FI (8件)：

C02F 1/78 , C02F 1/32 , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 C , C02F 1/50 531 R , C02F 1/50 540 A , C02F 1/50 550 L , C02F 1/58 H

Fターム (30件)：

4D037AA01 , 4D037AB02 , 4D037AB03 , 4D037AB04 , 4D037BA18 , 4D037BB01 , 4D037BB02 , 4D037CA12 , 4D038AA01 , 4D038AB04 , 4D038AB14 , 4D038AB27 , 4D038BA02 , 4D038BA04 , 4D038BA06 , 4D038BB07 , 4D038BB16 , 4D050AA01 , 4D050AB04 , 4D050AB06 , 4D050AB11 , 4D050AB19 , 4D050BB02 , 4D050BC09 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA07 , 4D050CA20

引用特許：

出願人引用 (2件)

高度浄水処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-149967 出願人：株式会社日立製作所
特開昭59-039384

審査官引用 (2件)

高度浄水処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-149967 出願人：株式会社日立製作所
特開昭59-039384

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