特許
J-GLOBAL ID：200903010158253365

陽極酸化法により製造した二酸化チタン

発明者：
正橋 直哉

正橋 直哉 について

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水越 克彰

水越 克彰 について

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大津 直史

大津 直史 について

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千星 聡

千星 聡 について


出願人/特許権者：
国立大学法人東北大学

国立大学法人東北大学 について

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公立大学法人大阪府立大学

公立大学法人大阪府立大学 について


代理人 (6件)： 重信 和男 ,  水野 昭宣 ,  清水 英雄 ,  高木 祐一 ,  中野 佳直 ,  秋庭 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-061776
公開番号（公開出願番号）：特開2009-215621
出願日： 2008年03月11日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：
【課題】光触媒活性と超親水性機能に優れた二酸化チタンを、工業的生産に適している、簡単な手法で得ることが求められている。【解決手段】チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に、高電圧を印加して陽極酸化を施すことによりあるいは高電流密度条件下に陽極酸化を施すことにより、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造することができ、さらに、該基材の表面に、高電圧を印加しての陽極酸化法あるいは高電流密度条件下の陽極酸化法により作製した膜に熱処理を施すことで、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造することができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に、(i)高電圧を印加して陽極酸化を施すあ るいは(ii)高電流密度条件下に陽極酸化を施すことにより、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造する方法。
IPC (3件)：
C25D 11/26 ,  C01G 23/047 ,  B01J 35/02
FI (3件)：
C25D11/26 302 ,  C01G23/047 ,  B01J35/02 J
Fターム (24件)：
4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA48A ,  4G169CA10 ,  4G169CA17 ,  4G169EA08 ,  4G169EC25 ,  4G169ED02 ,  4G169FB11 ,  4G169FB58 ,  4G169FB80 ,  4G169HA05 ,  4G169HB02 ,  4G169HC36 ,  4G169HD06 ,  4G169HD24 ,  4G169HE05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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