特許
J-GLOBAL ID:200903010205662627
積層圧延による形状記憶合金の製造方法及び形状記憶合金
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小林 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-149217
公開番号(公開出願番号):特開2001-329351
出願日: 2000年05月22日
公開日(公表日): 2001年11月27日
要約:
【要約】【課題】 Ni及びTiの薄板を使用し、多くの工程を経ることなく、安価に性能の優れた形状記憶合金を製造する方法、及び該製造方法により得られた形状記憶合金の提供。【解決手段】 Ni板とTi板を合計10層以上交互に重ね、一体化した後、これを熱間圧延圧着して各層を金属的に接合し多層構造とした金属板、又は該多層構造の金属板を再度10層以上重ねて一体化した後、熱間圧延圧着して各層を金属的に接合し多層構造とした金属板を、そのままあるいは冷間圧延後、NiとTiの合金の共晶点(942°C)以下の温度で熱処理することを特徴とする形状記憶合金の製造方法、及び該製造方法により得られた形状記憶合金。
請求項(抜粋):
Ni板とTi板を合計10層以上交互に重ね、一体化した後、これを熱間圧延圧着して各層を金属的に接合し多層構造とした金属板、又は該多層構造の金属板を再度10層以上重ねて一体化した後、熱間圧延圧着して各層を金属的に接合し多層構造とした金属板を、そのままあるいは冷間圧延後、NiとTiの合金の共晶点(942°C)以下の温度で熱処理することを特徴とする形状記憶合金の製造方法。
IPC (8件):
C22F 1/10
, B23K 20/00 340
, C22C 1/00
, C22F 1/00 627
, C22F 1/00 630
, C22F 1/00 683
, C22F 1/00 685
, C22F 1/00 691
FI (8件):
C22F 1/10 G
, B23K 20/00 340
, C22C 1/00 L
, C22F 1/00 627
, C22F 1/00 630 L
, C22F 1/00 683
, C22F 1/00 685 Z
, C22F 1/00 691 B
Fターム (8件):
4E067AA09
, 4E067AA12
, 4E067BB01
, 4E067BB02
, 4E067BD02
, 4E067DA08
, 4E067DD01
, 4E067EC02
引用特許:
引用文献:
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