塗布・現像装置及び塗布・現像方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 水野洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-002324
公開番号（公開出願番号）：特開2005-197469
出願日： 2004年01月07日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：

【課題】レジストを塗布し、液浸露光した後の基板を現像するにあたり、装置内の浸水を防止すると共に高いスループットを維持すること。【解決手段】その表面にレジストが塗布され、更に液浸露光された後の基板を基板載置部に載置し、この基板の表面に付着した少なくとも前記液層を形成した液を液検知部により検知する。そして液検知部の検知結果に基づいて基板を乾燥するか否か判定し、乾燥すると判定した基板を乾燥手段により乾燥する構成とする。これにより装置内が浸水するのを防止することができ、また乾燥が必要な基板に対してのみ乾燥処理を行うので高いスループットを維持することができる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニットと、その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットと、を備えた塗布・現像装置であって、前記露光された後の基板を載置する基板載置部と、この基板載置部上の基板の表面に付着した少なくとも前記液層を形成した液を検知する液検知部と、を有する検査ユニットと、前記液検知部の検知結果に基づいて基板を乾燥するか否か判定する制御部と、乾燥すると判定した基板を乾燥するための乾燥手段と、を備えたことを特徴とする塗布・現像装置。

IPC (7件)：

H01L21/027 , B05C9/12 , B05C11/00 , B05C11/08 , B05D3/00 , B05D7/00 , G03F7/38

FI (8件)：

H01L21/30 562 , B05C9/12 , B05C11/00 , B05C11/08 , B05D3/00 D , B05D7/00 H , G03F7/38 511 , H01L21/30 515D

Fターム (32件)：

2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096EA27 , 2H096FA03 , 2H096FA10 , 2H096JA03 , 4D075BB24Z , 4D075BB91Z , 4D075CA47 , 4D075DA06 , 4D075DA08 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EA07 , 4D075EA45 , 4D075EC60 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042AB00 , 4F042BA25 , 4F042DF09 , 4F042DF32 , 4F042DH09 , 4F042EB05 , 4F042EB09 , 5F046BA03 , 5F046CD05 , 5F046DB03 , 5F046LA11 , 5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (2件)

液浸式投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-296518 出願人：キヤノン株式会社
特開昭63-073628

審査官引用 (2件)

液浸式投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-296518 出願人：キヤノン株式会社
特開昭63-073628

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