マスク形成方法および情報記録媒体製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：酒井伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-259157
公開番号（公開出願番号）：特開2007-069462
出願日： 2005年09月07日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：

【課題】マスクの形成コストを低減し得るマスク形成方法を提供する。【解決手段】凹凸パターンが形成されたマスクを中間体10の上に形成する際に、紫外線硬化型の塗液(放射線硬化型の塗液)を中間体10の上に塗布して塗膜31を形成する塗膜形成処理と、塗膜31に紫外線52a(放射線)を照射する紫外線照射処理(放射線照射処理)と、スタンパーにおける凹凸パターンの形成面を塗膜31に押し付けてスタンパーの凹凸パターンを塗膜31に転写するパターン転写処理とをこの順で実行してマスクの凹凸パターンを形成する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

凹凸パターンが形成されたマスクを基材の上に形成する際に、放射線硬化型の塗液を前記基材の上に塗布して塗膜を形成する塗膜形成処理と、前記塗膜に放射線を照射する放射線照射処理と、スタンパーにおける凹凸パターンの形成面を前記塗膜に押し付けて当該凹凸パターンを当該塗膜に転写するパターン転写処理とをこの順で実行して前記マスクの凹凸パターンを形成するマスク形成方法。

IPC (3件)：

B29C 39/10 , G11B 5/855 , B29C 59/02

FI (3件)：

B29C39/10 , G11B5/855 , B29C59/02

Fターム (32件)：

4F204AA44 , 4F204AF01 , 4F204AG05 , 4F204AH38 , 4F204EB01 , 4F204EB12 , 4F204EB29 , 4F204EF01 , 4F204EF27 , 4F204EK17 , 4F204EK18 , 4F204EK24 , 4F204EW01 , 4F209AA44 , 4F209AD08 , 4F209AG03 , 4F209AH79 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PH02 , 4F209PJ06 , 4F209PJ08 , 4F209PN09 , 5D112AA19 , 5D112AA20 , 5D112AA24 , 5D112CC01 , 5D112CC12 , 5D112GB05 , 5D112GB07

引用特許：

出願人引用 (1件)

薄膜パターン製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-270458 出願人：株式会社日立製作所

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