特許
J-GLOBAL ID：200903010247779125
4,6-ジアミノレゾルシノ-ル又はその塩の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-016520
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279128
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】 4,6-ビス(置換)フェニルアゾレゾルシノールより、高純度の4,6-ジアミノレゾルシノールを高収率で得る方法の提供にある。【解決手段】 式〔1〕の4,6-ビス(置換)フェニルアゾレゾルシノール(例えば4,6-ビスフェニルアゾレゾルシノール)を金属触媒の存在下に水素還元し、4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩を得る方法において、溶媒として脂肪族ニトリル化合物(例えばアセトニトリル)を用いることを特徴とするか、或いは溶媒として脂肪族ニトリル化合物、炭素数3〜5の脂肪族アルコール、ジオキサン及びエチレングリコールモノメチルエーテル等から選ばれる有機溶媒を用い、更に濾過助剤(例えば活性炭)の存在下に還元を行うことを特徴とする4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩の製造方法に関する。【化1】(式中、Rはハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、ヒドロキシカルボニル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシ基を表し、nは0又は1〜5のいずれかの整数を表し、2個以上のRは互いに同一又は異なっていてもよい。)
請求項（抜粋）：
式〔1〕【化1】(式中、Rはハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、ヒドロキシカルボニル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシ基を表し、nは0又は1〜5のいずれかの整数を表し、2個以上のRは互いに同一又は異なっていてもよい。)で表される4,6-ビス(置換)フェニルアゾレゾルシノールを金属触媒及び溶媒の存在下に水素還元し、4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩を得る方法において、溶媒として脂肪族ニトリル化合物を用い還元を行うことを特徴とする4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩の製造方法。
IPC (6件)：
C07C213/02
, B01J 23/42
, B01J 23/44
, B01J 23/656
, C07C215/80
, C07B 61/00 300
C07C213/02
, B01J 23/42 X
, B01J 23/44 X
, C07C215/80
, C07B 61/00 300
, B01J 23/64 104 X
