特許

J-GLOBAL ID：200903010265359842

レジスト塗布方法および塗布装置

発明者： 斎藤 弘道 ,  西ヶ谷 健彦
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 花輪 義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201767
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031027
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】ウェハ表面に形成されるレジストの厚みを均一にできるとともに、レジストの無駄を減少できることを課題とする。【解決手段】表面に段差を有したウェハ12表面にレジスト13を塗布するレジストの塗布方法において、ウェハ12表面に対しXY方向にスキャン可能な機能を有するノズル11からレジスト13をインクジェット方式で塗布することを特徴とするレジストの塗布方法。

請求項（抜粋）：

表面に段差を有したウェハ表面にレジストを塗布するレジストの塗布方法において、ウェハ表面に対しXY方向にスキャン可能な機能を有するノズルからレジストをインクジェット方式で塗布することを特徴とするレジストの塗布方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40

FI (3件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A

Fターム (12件)：

4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075CA48 ,  4D075DA32 ,  4D075DA36 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042BA27 ,  4F042EB18 ,  5F046JA02 ,  5F046JA27

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-048459   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭64-003650
  
• 特開昭64-003650