特許
J-GLOBAL ID：200903077101979073

薄膜形成装置及び薄膜形成方法

発明者：
中 裕之

中 裕之 について

, 
三浦 真芳

三浦 真芳 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-048459
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250389
出願日： 1995年03月08日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：
【要約】【目的】 塗布液の無駄な消費を抑えかつ基板に反りや凹凸があっても簡単な移動制御で塗布後の膜厚を可及的に均一にできるようにする。【構成】 インクジェットコータ1は、角型基板10上にレジスト液の薄膜を形成する装置であって、基板を保持する基板保持部12と、Y方向に並べて配置されたインクジェット方式の複数のインクジェットノズル20を有し、角型基板10に向けて複数のノズル20からレジスト液を噴出して角型基板10上にレジスト液を塗布するインクジェットヘッド13と、インクジェットヘッド13を基板保持部12に対してX方向に直線的に移動させるヘッド移動部14とを備え、レジスト液を間接的に定量噴出しながら角型基板10上をインクジェットヘッド13を直線的に移動させて均一膜厚のレジスト膜11を形成する。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布液の薄膜を形成する薄膜形成装置であって、前記基板を保持する基板保持手段と、第1方向に並べて配置されたインクジェット方式の複数のノズルを有し、前記基板に向けて前記複数のノズルから前記塗布液を噴出して前記基板上に前記塗布液を塗布する塗布液塗布手段と、前記塗布液塗布手段を前記基板保持手段に対して前記第1方向と交差する第2方向に直線的に相対移動させる相対移動手段と、を備えた薄膜形成装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/06 ,  G03F 7/16 501
FI (3件)：
H01L 21/30 564 Z ,  B05C 11/06 ,  G03F 7/16 501
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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