酸化スズ膜の成膜方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-120523
公開番号（公開出願番号）：特開2000-313960
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】インジェクタ表面や成膜装置内部に酸化スズが堆積することを抑制できる酸化スズ膜のCVD成膜方法の提供。【解決手段】インジェクタのスリット10から四塩化スズを、またスリット11から水を供給し、CVD法により基板9上に酸化スズ膜を成膜する際、スリット12から臭化水素を供給する。

請求項（抜粋）：

スズの無機塩および水を含む原料ガスをインジェクタより基体表面に向けて供給し、CVD法により、基体上に酸化スズ膜を成膜する方法において、原料ガスをインジェクタの吹出し口より供給すると同時に、臭化水素を供給する酸化スズ膜の成膜方法。

IPC (3件)：

C23C 16/448 , C23C 16/455 , C01G 19/02

FI (3件)：

C23C 16/44 C , C23C 16/44 D , C01G 19/02 C

Fターム (11件)：

4K030AA02 , 4K030AA03 , 4K030AA18 , 4K030BA45 , 4K030CA05 , 4K030CA06 , 4K030EA06 , 4K030FA10 , 4K030GA12 , 4K030JA10 , 4K030LA16

引用特許：

出願人引用 (5件)

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審査官引用 (5件)

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