特許
J-GLOBAL ID：200903018111849015
液晶表示パネルの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
明田 莞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-086702
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294963
出願日： 1994年04月25日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【構成】 液晶表示パネルを製造するに際し、物理蒸着法により、純AlもしくはAl基合金よるなる配線用薄膜を成膜し、透明画素電極用の透明導電膜の成膜前に、物理蒸着法により、薄膜配線パターニング工程で形成され前記純AlもしくはAl基合金よるなる薄膜配線の表面に、ZrO2 とHfO2 のいずれか一方、又はその両者よりなる酸化膜を厚さ10nm以上形成する。【効果】 薄膜配線の上に、透明導電膜をパターニングして透明画素電極を形成するに際し、透明導電膜のウェットエッチングにあたり、前記透明導電膜に対するマスキングの多少の位置ずれが生じた場合でも、前記酸化膜が、前記エッチングのためのフッ酸等のエッチャントに対する耐食性が著しく良好なことから、透明導電膜より露出した部分がエッチングされることなく透明導電膜のみを選択的にエッチングできるので、表示欠陥の発生をなくして歩留りを向上できる。
請求項（抜粋）：
基板上に配線用薄膜を物理蒸着法により成膜する配線用薄膜成膜工程と、前記成膜された配線用薄膜をパターニングして薄膜配線を形成する薄膜配線パターニング工程と、この薄膜配線パターニング工程の後に透明画素電極用の透明導電膜を物理蒸着法により成膜する工程と、前記成膜された透明導電膜をパターニングして透明画素電極を形成する工程とを含む製造工程により、薄膜配線及び透明画素電極を備えた液晶表示パネルを製造するに際し、前記配線用薄膜として、物理蒸着法により、合金成分としてZrとHfのいずれか一方、又はその両者を総量で0.1〜10原子%含有するAl基合金よるなる配線用薄膜を成膜し、前記透明導電膜の成膜前に、陽極酸化法により、前記薄膜配線パターニング工程で形成され前記Al基合金よりなる薄膜配線の表面に、陽極酸化膜を厚さ10nm以上形成することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/136 510
, G02F 1/1343
