特許
J-GLOBAL ID:200903010331082768
光学機能性膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 勝広 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-149723
公開番号(公開出願番号):特開平8-318589
出願日: 1995年05月25日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【目的】 高機能、高品質な機能性薄膜を大量生産や設備コスト面で有利な塗布法によって形成する方法を提供すること。【構成】 RmSi(OR ́)n(R、R ́は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製した珪素酸化物ゾルを、透明樹脂基材上に直接又は他の層を介して塗布し、形成された塗布層に活性エネルギー線を照射することを特徴とする光学機能性膜の製造方法。
請求項(抜粋):
RmSi(OR ́)n(R、R ́は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルを、透明樹脂基材上に直接又は他の層を介して塗布し、形成された塗布層に活性エネルギー線を照射することを特徴とする光学機能性膜の製造方法。
IPC (4件):
B32B 9/00
, B32B 7/02 103
, C08J 7/00 302
, C08J 7/06
FI (4件):
B32B 9/00 A
, B32B 7/02 103
, C08J 7/00 302
, C08J 7/06 Z
引用特許:
出願人引用 (4件)
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金属酸化物薄膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-307565
出願人:藤森工業株式会社
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複合プラスチツクシート
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-355383
出願人:株式会社ケミトロニクス
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特開平4-149249
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特開昭62-148902
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審査官引用 (6件)
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