特許
J-GLOBAL ID:200903010366494481
レーザ加工装置及び加工方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-173244
公開番号(公開出願番号):特開2001-347388
出願日: 2000年06月09日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 紫外線領域の波長のレーザビームを用い、加工時間を短くすることが可能なレーザ加工装置及び加工方法を提供する。【解決手段】 制御手段13が、周期的な波形を有する第1の契機信号と、第1の契機信号に同期した周期的な波形を有する第2の契機信号とを出力する。第1のレーザ光源1が、第1の契機信号に同期して、紫外線領域の波長を有する第1のパルスレーザビームpl1を出射する。第2のレーザ光源2が、第2の契機信号に同期して、紫外線領域の波長を有する第2のパルスレーザビームpl2を出射する。集光光学系11が、第1のパルスレーザビームpl1と第2のパルスレーザビームpl2とを、同一点に集光する。集光光学系で集光されたパルスレーザビームpl5が照射される位置に、保持手段12が、被加工物20を保持する。
請求項(抜粋):
周期的な波形を有する第1の契機信号と、該第1の契機信号に同期した周期的な波形を有する第2の契機信号とを出力する制御手段と、前記第1の契機信号に同期して、紫外線領域の波長を有する第1のパルスレーザビームを出射する第1のレーザ光源と、前記第2の契機信号に同期して、紫外線領域の波長を有する第2のパルスレーザビームを出射する第2のレーザ光源と、前記第1のパルスレーザビームと、前記第2のパルスレーザビームとを、同一点に集光する集光光学系と、前記集光光学系で集光されたパルスレーザビームが照射される位置に被加工物を保持する保持手段とを有するレーザ加工装置。
IPC (5件):
B23K 26/06
, B23K 26/00 330
, B23K 26/04
, H05K 3/00
, B23K101:42
FI (6件):
B23K 26/06 E
, B23K 26/06 A
, B23K 26/00 330
, B23K 26/04 A
, H05K 3/00 N
, B23K101:42
Fターム (6件):
4E068AF01
, 4E068CA06
, 4E068CA09
, 4E068CD02
, 4E068CD05
, 4E068DA11
引用特許: