リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれにより製造したデバイス

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-135865
公開番号（公開出願番号）：特開2004-343106
出願日： 2004年04月30日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】支持ピンの分布が改善された基板ホルダを有するリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】複数の突起を備える基板ホルダ2を備え、その末端は、ほぼ平坦な基板3を支持するためにほぼ平坦な支持面を画定し、前記基板ホルダには、基板を突起の末端に対して圧迫する圧迫力を提供する手段が設けられ、基板ホルダの縁ゾーンの突起は、圧迫手段の圧迫力に対して基板のほぼ平坦なオーバハングを提供するよう構成され、基板ホルダの縁以外のゾーンの前記突起が、前記複数突起の各突起にほぼ等しい支持区域13を提供するよう分布し、前記支持区域が、突起に関連するボロノイ図分布によって画定される。本リソグラフィ装置は、オーバレイエラーおよび焦点エラーを減少させた基板ホルダを提供する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置で、 - 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、 - パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、 - 複数の突起を備える基板ホルダを備え、その末端は、ほぼ平坦な基板を支持するためにほぼ平坦な支持面を画定し、前記基板ホルダには、基板を突起の末端に対して圧迫する圧迫力を提供する手段が設けられ、基板ホルダの縁ゾーンの突起は、圧迫手段の圧迫力に対して基板のほぼ平坦なオーバハングを提供するよう構成され、さらに、 - パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置であって、 - 基板ホルダの縁以外のゾーンの前記突起が、前記複数突起の各突起にほぼ等しい支持区域を提供するよう分布し、前記支持区域が、突起に関連するボロノイ図分布によって画定されることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68

FI (4件)：

H01L21/30 515G , G03F7/20 521 , H01L21/68 N , H01L21/30 503C

Fターム (11件)：

5F031CA02 , 5F031HA08 , 5F031HA33 , 5F031HA53 , 5F031KA06 , 5F031MA27 , 5F031NA05 , 5F046BA03 , 5F046CC08 , 5F046CC10 , 5F046CC11

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-323849
基板保持装置及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-061769 出願人：株式会社ニコン
改良基板ホルダ付きリソグラフィ-的投影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-086533 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

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