改良基板ホルダ付きリソグラフィ-的投影装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086533
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068198
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】基板の全平面に優れた平面性を保証する基板ホルダを有するリソグラフィー投影装置を提供する。【解決手段】基板ホルダのプレート2の面には、高さHの先端の平面を有する突出部6のマトリクス配列と、これを囲む壁8でHよりも低い高さhの壁8がある。壁8の内側にプレート2へ貫通する開口10であって、これにより、壁8に囲まれた領域へアクセス可能である。マトリクス配列は同心円に沿って規則的な間隔で配置され、壁8も同心の円形である。マトリクス配列の円12と壁8との最短距離xと壁8に最も近い2つのマトリクス配列の円12の間の半径方向距離dとの関係は0.3<x/d<0.6である。

請求項（抜粋）：

放射の投影ビームを供給する放射システムと、マスクを保持するマスク・ホルダを備えたマスク・テーブルと、基板を保持する基板ホルダを備えた基板テーブルと、前記マスクの照射された部分を前記基板のターゲット部分に映写する投影システムと、を含み、前記基板ホルダが、突出部のマトリクス配列を備えた面を有するプレートを含み、各突出部が前記面から離れた先端を有し、それにより前記突出部が全て前記面よりも高さHだけ上にある単一の実質的に平らな面上にあるように実施され、前記基板ホルダが、前記面から突出する、前記マトリクス配列を実質的に囲む、実質的に一様な高さhだけ前記面よりも上にある一つの壁をさらに含み、それによりh<Hであり、前記壁の内側の前記面が、前記プレートを貫通して延伸する少なくとも一つの開口を備え、該開口を通じて前記壁で囲まれた領域へアクセス可能である、リソグラフィー投影装置において、前記マトリクス配列が一連の同心円からなり、それにより、前記突出部が各円に沿って、実質的に規則的な弓形の間隔で配置され、前記壁が、実質的に円形であって、前記複数の円と同心であり、前記壁とそれに最も近い前記円との間の半径方向距離xが0.3<x/d<0.6の関係を満足し、ここで、dは前記壁に最も近い二つの円の相互の半径方向間隔であることを特徴とする、リソグラフィー投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 503 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 G

引用特許：

審査官引用 (10件)

ウエハチャックおよびそれを用いた露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-172355 出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
ウェハ真空吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-123236 出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
特開昭60-009125

全件表示

前のページに戻る