特許

J-GLOBAL ID：200903010555468963

ウエハー支持基板

発明者： 森川 孝之
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-382169
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184845
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：

【要約】【課題】半導体製造工程における化合物半導体ウエハーの裏面加工の際にウエハーを支持する基板として、サファイアを用いると、光学的異方性からアライニングの際に複屈折が起きて、アライニング精度が低下する問題があった。【解決手段】サファイア製支持基板の主面をR面±2°以内とし、C軸投影方向を示す表示部を設ける。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程における化合物半導体ウエハーの裏面加工の際にウエハーを支持する基板において、サファイアからなり、その主面がR面±2°以内であり、かつ主面内にC軸投影方向±2°以内の位置に表示部を有することを特徴とするウエハー支持基板。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/304 622

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  B24B 37/04 J ,  H01L 21/304 622 J

Fターム (22件)：

3C058AB04 ,  3C058BC03 ,  3C058CB02 ,  3C058CB05 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17 ,  5F031CA02 ,  5F031HA01 ,  5F031HA02 ,  5F031HA12 ,  5F031HA32 ,  5F031HA48 ,  5F031JA02 ,  5F031JA06 ,  5F031JA27 ,  5F031JA37 ,  5F031MA22 ,  5F031MA24 ,  5F031MA32 ,  5F031PA11 ,  5F031PA20 ,  5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ウエハ保持用基板及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-071712   出願人：沖電気工業株式会社
• 液晶プロジェクタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-052061   出願人：京セラ株式会社
• 磁気ヘッド浮上量測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-341701   出願人：京セラ株式会社