特許

J-GLOBAL ID：200903010580260129

光導波回路

発明者： 安田 成留 ,  寺川 裕佳里 ,  細川 速美
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-165838
公開番号（公開出願番号）：特開2002-323634
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】 スピンコート法やディップコート法による製法においても、コアの形状安定性を高めると共にコアからの信号の漏れやクロストークを低減することができる光導波回路を提供する。【解決手段】 基板11の表面に複数のコア溝12が設けられており、各コア溝12の両側もしくは周囲に先端がとがった断面三角形状の突起13が設けられている。コア溝12内には突起13の先端部分まで樹脂材料14が充填されてコア部15が形成されている。

請求項（抜粋）：

基板の表面に溝を設け、当該溝に樹脂材料を充填してコア部を形成した光導波回路であって、前記基板の表面に突起が設けられており、前記溝または前記突起により形成されている凹形状の上端部まで樹脂材料を充填していることを特徴とする光導波回路。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/122

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 A

Fターム (8件)：

2H047KA03 ,  2H047KB10 ,  2H047PA02 ,  2H047PA15 ,  2H047PA26 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA41

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-260333   出願人：日立電線株式会社
• 微細パターン形成方法、光学素子の製造方法、光学素子および光伝送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-049194   出願人：松下電器産業株式会社