特許

J-GLOBAL ID：200903010636663663

フォトレジスト用の反射防止膜用組成物

発明者： ディクスィット・サニット・エス ,  ラーマン・エム・ダリル ,  ハンナ・ディニッシュ・エヌ ,  オウバーランダー・ジョセフ・イー
出願人/特許権者： クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-517218
公開番号（公開出願番号）：特表2003-507760
出願日： 2000年08月04日
公開日（公表日）： 2003年02月25日
要約：

【要約】【解決手段】 本発明はa)以下の構造式【化1】[式中、R1 およびR2 は互いに無関係に水素原子またはC1 〜C5 -アルキル基であり、R3 はメチル、エチル、プロピルまたはブチル基であり、R4 〜R7 は互いに無関係に水素原子またはC1 〜C5 -アルキル基であり、nは10〜50,000である。]で規定されるポリマー;b)(水に0.1〜10重量%溶解する)低い水溶性で弗素含有の有機系C3 〜〜C13-脂肪族カルボン酸;c)非金属水酸化物;およびd)溶剤の混合物を含有する反射防止膜用組成物に関する。また本発明はかゝる反射防止膜用組成物を製造する方法および反射防止膜用組成物をフォトレジスト組成物と併せて電子部品を製造する方法にも関する。

請求項（抜粋）：

a)以下の構造【化1】[式中、 R1 およびR2 は互いに無関係に水素原子またはC1 〜C5 -アルキル基であ り、 R3 はメチル、エチル、プロピルまたはブチル基であり、 R4 〜R7 は互いに無関係に水素原子またはC1 〜C5 -アルキル基であ り、 nは10〜50,000である。]で規定されるポリマーを準備し、b)(1) 約1000〜500,000の重量平均分子量を有する段階(a)のポ リマー; (2) (水に0.1〜10重量%溶解する)低い水溶性で弗素含有の有機系 C3 〜C13-脂肪族カルボン酸; (3) 非金属水酸化物;および (4) 溶剤の混合物を準備することによって上面反射防止膜用組成物を調製することを特徴とする、反射防止膜用組成物の製造方法。

IPC (6件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  C09D 5/00 ,  C09D179/00 ,  G03F 7/11 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 506 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D179/00 ,  G03F 7/11 501 ,  H01L 21/30 574

Fターム (20件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CB41 ,  2H025CB47 ,  2H025CB53 ,  2H025CC20 ,  2H025DA01 ,  2H025DA34 ,  4J038DJ001 ,  4J038GA02 ,  4J038HA146 ,  4J038JA35 ,  4J038JB01 ,  4J038JC31 ,  4J038KA06 ,  4J038NA19 ,  5F046PA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト用最上部反射防止コーティングにおける金属イオン含有量の低減
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-503373   出願人：ヘキストセラニーズコーポレーション
• 特許第454323号