特許
J-GLOBAL ID：200903010681361562
電極薄膜とその製造方法および電極薄膜を用いた磁気抵抗効果型ヘッド
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-321919
公開番号（公開出願番号）：特開平8-180335
出願日： 1994年12月26日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【目的】 比抵抗が小さく耐食性に優れた電極薄膜とその製造法および抵抗・発熱等が小さい磁気抵抗効果型ヘッドを提供すること。【構成】 ?@電極部が体心立方構造の結晶系をもつタンタル・モリブデン合金薄膜の電極薄膜。?A電極部がアルゴンガス等に5%以下の窒素ガスを添加した混合ガスの雰囲気中でスパッタリングしてなる電極薄膜。?B基板上に,軟磁性薄膜,非磁性スペーサ薄膜,磁気抵抗効果薄膜,反強磁性交換バイアス薄膜,第1の電極薄膜等が積層され、反強磁性交換バイアス薄膜,第1の電極薄膜等の所定領域が切除されて成る作動領域を備え、非磁性スペーサ薄膜および第1の電極薄膜を、タンタル・モリブデン合金薄膜により構成し、非磁性スペーサ薄膜のタンタル・モリブデン合金薄膜が、所定の混晶構造を備えたものであること。
請求項（抜粋）：
所定部材上に所定の面積をもって薄膜状に形成され電極部として機能する電極薄膜において、前記電極部を、体心立方構造の結晶系をもつタンタル・モリブデン合金薄膜で構成したことを特徴とする電極薄膜。
IPC (3件)：
G11B 5/39
, H01F 10/12
, H01F 41/18
