特許

J-GLOBAL ID：200903010701241348

高反射低抵抗薄膜とその成膜用スパッタリングターゲット

発明者： 高橋 右記 ,  佐竹 博光 ,  渡部 直志 ,  古山 晃一
出願人/特許権者： 株式会社倉元製作所 ,  株式会社豊島製作所
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-065613
公開番号（公開出願番号）：特開2002-266068
出願日： 2001年03月08日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 FPDの反射膜、反射電極、電極および配線等として有用で、反射率が高く安定し、電気抵抗が低いことに加えて、膜密着性、耐久性にも優れた高反射低抵抗薄膜と、その薄膜を成膜するために用いることができるスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 フラットパネルディスプレイ用の電極、配線、反射膜あるいは反射電極を形成するための薄膜であって、実質的にAg-Ru-Auの3元合金から形成されるとともに、膜厚が280nmのときの可視光域における平均反射率が88%以上、反射率の高低差が10%以内、かつ電気抵抗率が14μΩcm以下であることを特徴とする高反射低抵抗薄膜とする。

請求項（抜粋）：

フラットパネルディスプレイ用の電極、配線、反射膜あるいは反射電極を形成するための薄膜であって、実質的にAg-Ru-Auの3元合金から形成されるとともに、膜厚が280nmのときの可視光域における平均反射率が88%以上、反射率の高低差が10%以内、かつ電気抵抗率が14μΩcm以下であることを特徴とする高反射低抵抗薄膜。

IPC (6件)：

C23C 14/34 ,  C22C 5/06 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/30 330 ,  G09F 9/30 349 ,  H01J 29/28

FI (6件)：

C23C 14/34 A ,  C22C 5/06 Z ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/30 330 Z ,  G09F 9/30 349 D ,  H01J 29/28

Fターム (32件)：

2H092HA05 ,  2H092KB04 ,  2H092MA05 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092NA28 ,  2H092PA12 ,  4K029AA09 ,  4K029BA22 ,  4K029BC07 ,  4K029BD09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC09 ,  5C036BB04 ,  5C094AA04 ,  5C094AA22 ,  5C094AA24 ,  5C094AA32 ,  5C094AA37 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094AA55 ,  5C094DA13 ,  5C094EA00 ,  5C094EA06 ,  5C094FB02 ,  5C094FB12 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5C094JA05 ,  5C094JA08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 高耐熱性反射膜及びこの反射膜を用いた積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-373602   出願人：株式会社フルヤ金属