特許
J-GLOBAL ID：200903010704504323
微細構造体の形成方法およびその方法で形成された微細構造体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-006490
公開番号（公開出願番号）：特開2006-195168
出願日： 2005年01月13日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】 マスクと基板との相対的な移動を不要とし、3次元の微細構造体を容易に形成することが可能な微細構造体の形成方法を提供する。【解決手段】 それぞれ露光感度波長の異なるレジスト層12,13を2層形成し、その後、パターンの異なる2枚の露光マスク110,120を用いて、2層のレジスト層12,13の露光を順次行なうことにより、最終的に鋳型となるレジスト層の平面と平行な平面内における露光光の露光量(光エネルギ)分布が連続的に変化するように制御でき、レジスト層12,13の各部での露光光の露光量(光エネルギ)分布に応じた深さの露光を可能とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に第1レジスト層を形成し、さらに、前記第1レジスト層の上に前記1レジスト層とは異なる複数のレジスト層を形成する工程と、
第1露光マスクを用いて、前記第1レジスト層および前記第1レジスト層とは別のレジスト層に所定パターンを露光し、第1露光領域を形成する工程と、
前記第1露光マスクとは異なる露光マスクを用いて、前記第1レジスト層とは異なるレジスト層にのみ所定パターンを露光し、この露光を複数回繰り返して露光領域を形成する工程と、
前記第1レジスト層および前記第1レジスト層とは別のレジスト層から前記第1露光領域および前記第1露光領域とは別の露光領域を除去して、微細構造体を形成する工程と、
を備える、微細構造体の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2H097AA11
, 2H097AA13
, 2H097CA15
, 2H097CA17
, 2H097FA04
, 2H097LA15
