特許

J-GLOBAL ID：200903010794791857

光触媒作用による排ガスの精製方法および前記方法を実施するためのプラント

発明者： ピエール・モンジアン ,  クリスティーヌ・ングイエン・ディン・アン ,  フランソワーズ・デルペシュ ,  ジャン-クロード・ルー ,  シルヴィー・ブルジョワ ,  アレクシス・スタインブリュン ,  ピエール・ピシャ ,  ジャン・ディディエ ,  エステル・ミートン-セルマン ,  ヴァージニー・ブロンドー-パティシエール ,  レオニ・ブヴィエ ,  ジョゼフ・ドゥッソー ,  ピエール・ジラール
出願人/特許権者： アフルストロム・ペイパー・グループ・リサーチ・アンド・コンピーテンス・センター
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外7名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-621048
公開番号（公開出願番号）：特表2003-500201
出願日： 2000年05月04日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】一段階の紫外線照射のもとで、少なくとも一つの第一基質を覆い包み、かつ、第二基質を横切るように排ガスを移動させる、前記第一基質と第二基質とが少なくとも一つの光触媒試薬で被覆された、光触媒反応による排ガスの精製方法、並びに、当該精製方法を実施するためのプラントに関する。

請求項（抜粋）：

一段階の紫外線照射のもとで、少なくとも一つの第一基質を覆い包み、かつ、第二基質を横切るように排ガスを移動させる、前記第一基質と第二基質とが少なくとも一つの光触媒試薬で被覆された、光触媒反応による排ガスの精製方法。

IPC (2件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01J 19/12

FI (2件)：

B01J 19/12 C ,  B01D 53/36 ZAB J

Fターム (23件)：

4D048AA20 ,  4D048AA21 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048CA07 ,  4D048CB05 ,  4D048CC27 ,  4D048CC32 ,  4D048DA02 ,  4D048DA06 ,  4D048DA20 ,  4D048EA01 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075AA62 ,  4G075BA04 ,  4G075BA06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075EB01 ,  4G075EB32 ,  4G075EE02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特表平2-501541
  
• 光触媒カートリッジ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-043262   出願人：日本無機株式会社
• 液体中のTOC成分を分解除去する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-324878   出願人：藤嶋昭, 橋本和仁, 株式会社日本フォトサイエンス
• 特公平6-011303
  

審査官引用 (6件)

• 特表平2-501541
  
• 液体中のTOC成分を分解除去する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-324878   出願人：藤嶋昭, 橋本和仁, 株式会社日本フォトサイエンス
• 特公平6-011303
  
• 光触媒カートリッジ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-043262   出願人：日本無機株式会社
• 特表平2-501541
  
• 特公平6-011303