特許
J-GLOBAL ID:200903010826285096
殺菌方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
磯野 道造
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-075025
公開番号(公開出願番号):特開2001-259002
出願日: 2000年03月17日
公開日(公表日): 2001年09月25日
要約:
【要約】【課題】 従来技術に比べはるかに低い圧力、簡易な装置と操作、短時間で十分な殺菌効果の得られる殺菌装置の提供を課題とする。【解決手段】 処理槽20は耐圧容器で構成され、処理槽20内の温度と圧力を調整するための熱電対21、圧力計22及び冷却器23が設けられている。処理槽内の液状被処理物を攪拌するために、モータ24で回転駆動される攪拌翼25が設けられている。炭酸ガスハイドレートを生成するための炭酸ガスは、液化炭酸ガスボンベ26から圧力調整弁26b及び開閉弁26cをその途中に配設された配管26aを介して処理槽に供給される。液状被処理物は貯槽27に貯留されており、導入管28、ポンプ29により開閉弁28bを介して、処理槽20内に導かれるが、導入管28の途中でも冷却器30で冷却されるように構成されている。
請求項(抜粋):
液状被処理物中に炭酸ガスハイドレートを生成せしめることを特徴とする殺菌方法。
IPC (11件):
A61L 2/22
, A01N 59/04
, A61L 2/02
, A61L 2/18
, C02F 1/50 510
, C02F 1/50 520
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50 540
, C02F 1/50 550
, C02F 1/50
, A23L 3/3445
FI (11件):
A61L 2/22
, A01N 59/04
, A61L 2/02 Z
, A61L 2/18
, C02F 1/50 510 Z
, C02F 1/50 520 Z
, C02F 1/50 531 Z
, C02F 1/50 540 B
, C02F 1/50 550 B
, C02F 1/50 550 D
, A23L 3/3445
Fターム (22件):
4B021LA42
, 4B021LP07
, 4B021LP10
, 4B021LT03
, 4B021LW06
, 4B021MC01
, 4B021MK13
, 4B021MP01
, 4B021MQ04
, 4C058AA21
, 4C058AA22
, 4C058BB07
, 4C058CC02
, 4C058DD04
, 4C058DD06
, 4C058DD11
, 4C058JJ07
, 4C058JJ16
, 4C058JJ28
, 4H011AA02
, 4H011BB18
, 4H011DA13
引用特許:
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