特許
J-GLOBAL ID：200903010881520908
プロキシミティ露光方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-042825
公開番号（公開出願番号）：特開2000-241995
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスクよりも大きなサイズのガラス基板に対してプロキシミティ露光を高速かつ効率的に行えるようにする。【解決手段】 マスクホルダを下面から吸着する下面マスクホルダと上面から吸着する上面マスクホルダとで構成し、フォトマスクの下面側のマスクホルダの存在しない部分を利用して、フォトマスクよりも大きなガラス基板に対して複数回の分けて露光処理を行い、ガラス基板全体に所定の露光処理を行う。このとき、ガラス基板を1回目の露光位置に位置決めしてから、ガラス基板を搬入し、プロキシミティギャップ制御処理及び露光処理を行い、その後に次の2回目の露光位置に位置決めし、プロキシミティギャップ制御及び露光処理を行う。この2回目の露光処理が終了した時点でガラス基板をアンローダ側に搬送し、次のガラス基板を搬入するために1回目の露光位置への位置決め(ステップ移動)を行う。すなわち、ステップ移動処理の過程でプロキシミティギャップ制御及び露光処理を順次行うようにした。
請求項（抜粋）：
マスクホルダに保持されたフォトマスク面と露光チャックに保持されたガラス基板面との間に形成されるギャップを所定のギャップとなるようにプロキシミテイギャップ制御を行なって露光を行なうプロキシミテイ露光方法において、前記フォトマスクよりも大きな前記ガラス基板に対して少なくとも2回の露光ステップで分割して露光を行なうように、該フォトマスクに対する前記露光チャック上の該ガラス基板の水平方向相対位置を各露光ステップに対応する所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ前記プロキシミテイギャップ制御を行なって露光処理を行なう、複数の露光ステップからなる露光工程と、最後の露光ステップでの露光処理の終了後に、前記フォトマスクに対して前記露光チャックを相対的に下降させて所定の搬出位置に設定し、該搬出位置で該露光チャックから露光済みのガラス基板を搬出する搬出工程と、前記露光チャックを相対的に下降させたままの状態で、前記フォトマスクに対する該露光チャックの水平方向相対位置を最初の露光ステップに対応する位置まで戻す戻し工程と、前記最初の露光ステップに対応する相対位置まで戻された前記露光チャック上に新たなガラス基板を搬入する搬入工程と前記搬入工程の後前記露光チャックを前記フォトマスクに対して相対的に所定量上昇させ、その後前記露光工程を開始させる工程とを具え、前記露光工程によって前記新たなガラス基板に対する露光処理が行なわれるようにしたプロキシミテイ露光方法。
IPC (3件)：
G03F 9/00
, G03F 7/22
, H01L 21/027
G03F 9/00 Z
, G03F 7/22 Z
, H01L 21/30 511
2H097AA11
, 2H097DA06
, 2H097DB07
, 2H097GA45
, 2H097LA12
, 5F046AA11
, 5F046BA02
, 5F046CC05
, 5F046CC09
, 5F046CD01
, 5F046CD02
, 5F046CD04
, 5F046DA17
