基板処理装置およびデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-171260
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008285
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】再度の基板のアライメント等を不要にして、基板処理のスループットを向上させる。【解決手段】基板Wを保持する基板保持手段5と、基板を保持して前記基板保持手段上に搬送する基板搬送手段201と、基板を前記基板搬送手段上に保持した状態で該基板上のマークの位置を検出するマーク検出手段16と、前記基板搬送手段から前記基板保持手段へ基板を渡す際に、前記基板保持手段の所定位置に基板が渡されるよう前記マーク検出手段の検出結果に基づいて前記基板保持手段と前記基板搬送手段とを相対的に移動させる相対移動手段4を備えた基板処理装置において、前記基板搬送手段は基準マーク206を有し、前記相対移動手段は前記マーク検出手段による前記基準マーク位置の検出結果に基づいて、前記相対的移動の量を補正する。あるいは、前記基板上のマークの位置の検出結果、および前記基準マーク位置の検出結果を考慮して、前記基板保持手段上に保持されている基板に対して所定の処理を行う。

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板保持手段と、基板を保持して前記基板保持手段上に搬送する基板搬送手段と、基板を前記基板搬送手段上に保持した状態で該基板上のマークの位置を検出するマーク検出手段と、前記基板搬送手段から前記基板保持手段へ基板を渡す際に、前記基板保持手段の所定位置に基板が渡されるよう前記マーク検出手段の検出結果に基づいて前記基板保持手段と前記基板搬送手段とを相対的に移動させる相対移動手段を備えた基板処理装置において、前記基板搬送手段は基準マークを有し、前記相対移動手段は前記マーク検出手段による前記基準マーク位置の検出結果に基づいて、前記相対的移動の量を補正するものであることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 502 J , H01L 21/30 520 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭64-030242
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-242187 出願人：キヤノン株式会社
特開昭64-030242

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