特許

J-GLOBAL ID：200903010962241140

ポジ型レジスト組成物

発明者： 尾家 正行 ,  河田 正司 ,  山田 隆正
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-184415
公開番号（公開出願番号）：特開平6-202319
出願日： 1989年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像度、残膜率、耐熱性、保存安定性などの諸特性に優れた、特に、1μm以下の微細加工に適した高感度ポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 (A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)下記式(I)で表される化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤、【化1】および下記一般式(II)で示される化合物【化2】(R1〜R7は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基、または炭素数1〜3の置換もしくは未置換のアルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。R8は、水素原子またはアルキル基である。)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)下記式(I)で表される化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤、【化1】および下記一般式(II)で示される化合物【化2】(R1〜R7は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基、または炭素数1〜3の置換もしくは未置換のアルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい。R8は、水素原子またはアルキル基である。)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-201110   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 特開平3-048249
  
• 特開平1-189644
  
• 特開平2-275955
  
• 特開平3-200252