特許
J-GLOBAL ID:200903011047797516

プラズマトーチ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 米原 正章 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-274310
公開番号(公開出願番号):特開平7-130490
出願日: 1993年11月02日
公開日(公表日): 1995年05月19日
要約:
【要約】【目的】 電極ホルダが梨地化やブリッジ現象の発生が防止できるようにする。【構成】 電極体の先部及び少なくとも、上記ノズルとの距離が最も短くなる部位付近が融点の高い物質、またはこの融点の高い物質に仕事関数の低い物質またはその酸化物を混合させた物質で構成する。
請求項(抜粋):
電極体と、電極体の先端部をプラズマガス通路を隔ててカバーするノズルを備えるプラスマガス旋回流式のプラズマトーチにおいて、上記電極体の先部及び少なくとも、上記ノズルとの距離が最も短くなる部位付近が融点の高い物質、またはこの融点の高い物質に仕事関数の低い物質またはその酸化物を混合させた物質で構成されることを特徴とするプラズマトーチ。
IPC (4件):
H05H 1/34 ,  B23K 10/00 504 ,  B23K 35/04 ,  B23K 35/22
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-299860
  • クリーム半田印刷装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-069867   出願人:イビデン株式会社, イビデン産業株式会社
  • 特開平1-299777
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