特許
J-GLOBAL ID:200903011051166334
3D光重合デバイスの製造
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-523288
公開番号(公開出願番号):特表2005-534063
出願日: 2003年07月21日
公開日(公表日): 2005年11月10日
要約:
ポリマー層を作製するためのプロセスおよび装置。光重合可能前駆物質を含む液体層(20)は、基材(17)とフォトマスク(12)との間に形成される。反応チャンバは、基部(15)、側壁(16)および液体層(20)の1以上の領域を重合して、ポリマー層を形成するフォトマスク(12)によって形成される。本発明は、具体的には、基材の上にポリマー層を生成するための方法を提供し、この方法は、a)該基材と少なくとも部分的に透過性の構成要素との間に光重合可能ポリマー前駆物質を含む液体の層を形成する工程;b)該液体層を少なくとも部分的に透過性の構成要素を通して光に曝し、それによって該液体層の1以上の領域を重合して、ポリマー層を形成する工程;およびc)任意の非重合領域または該液体層の領域を除去する工程、を包含する。
請求項(抜粋):
基材の上にポリマー層を生成するための方法であって、該方法は、以下の工程:
a)該基材と少なくとも部分的に透過性の構成要素との間に光重合可能ポリマー前駆物質を含む液体の層を形成する工程;
b)該液体層を少なくとも部分的に透過性の構成要素を通して光に曝し、それによって該液体層の1以上の領域を重合して、ポリマー層を形成する工程;および
c)任意の非重合領域または該液体層の領域を除去する工程、
を包含する、方法。
IPC (4件):
G03F7/11
, G03F7/004
, G03F7/40
, H01L21/027
FI (4件):
G03F7/11 501
, G03F7/004 503Z
, G03F7/40 521
, H01L21/30 502R
Fターム (15件):
2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025CA01
, 2H025CC20
, 2H025FA39
, 2H096AA30
, 2H096BA05
, 2H096BA20
, 2H096CA20
, 2H096EA02
, 2H096HA30
, 2H096JA04
引用特許: