特許

J-GLOBAL ID：200903011264656670

処理液供給方法およびその装置

発明者： 真田 雅和
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-289734
公開番号（公開出願番号）：特開平9-267067
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 処理液が吐出されたことに基づいて、それ以降の命令を実行することにより、基板に均一な処理を施すことができる。【解決手段】 供給開始命令を含む複数個の命令からなり、予め記憶されている一連の処理を規定する処理プログラムに基づき基板の中心付近に処理液を供給する処理液供給方法において、供給開始命令が実行された時点TS 以降は、ノズルから処理液が吐出されたことを示す吐出検出信号が出力されたことに基づいてそれ以降の処理プログラムの命令(タイマースタート命令)を実行する。

請求項（抜粋）：

供給開始命令を含む複数個の命令からなり、予め記憶されている一連の処理を規定する処理プログラムに基づき前記基板の中心付近に処理液を供給する処理液供給方法において、供給開始命令が実行された後、処理液が吐出されたことに基づいて、それ以後の処理プログラムの命令を実行することを特徴とする処理液供給方法。

IPC (4件)：

B05C 11/10 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 11/10 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-193252
  
• 回転塗布装置及び回転塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-111749   出願人：富士通株式会社