特許
J-GLOBAL ID：200903011287168974
抗菌性薄膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-104052
公開番号（公開出願番号）：特開平6-312477
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：
【要約】【目的】 オングストロームオーダーの厚さの分子膜の形成が可能で、かつ共有結合によって基体と化学結合している抗菌性薄膜を得る。【構成】 膜構成分子を基体に固定するための官能基としてクロロシリル基およびハロゲン化スルフィニル基を用いて、膜構成分子が基体(ガラス基板1)と直接または間接的に、共有結合で強固に固定されているカチオン錯体化学吸着単分子膜3であって、かつ膜内には抗菌性を有する官能基としてCu2+と錯体を形成しているキノリニル基を有するので、これまでには存在しない薄く、かつ強固な抗菌性薄膜になる。
請求項（抜粋）：
薄膜を構成する分子が基体と直接または間接的に、Si、Ge、Sn、Ti、Zr、SおよびCから選ばれる少なくとも一つの原子を介して共有結合で固定されている有機薄膜であって、前記有機薄膜は分子中に抗菌性をもつ官能基を有することを特徴とする抗菌性薄膜。
IPC (2件)：
引用特許：
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