特許
J-GLOBAL ID：200903011348554023
貴金属膜被覆高分子基体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-228701
公開番号（公開出願番号）：特開平9-071859
出願日： 1995年09月06日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【課題】高分子基体上に貴金属膜が密着性良好に形成され、しかも経時的な膜密着性の低下が生じない貴金属膜被覆高分子基体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】高分子材料からなる被成膜基体S上に、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、アルミニウム(Al)及びシリコン(Si)から選ばれた少なくとも一種の物質の窒化物又は(及び)酸化物からなる中間膜S1が形成され、中間膜S1上に、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)及び金(Au)から選ばれた少なくとも一種の物質からなる貴金属膜S2が形成されている貴金属膜被覆高分子基体及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
高分子材料からなる被成膜基体上に、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、アルミニウム(Al)及びシリコン(Si)から選ばれた少なくとも一種の物質の窒化物又は(及び)酸化物からなる中間膜が形成され、該中間膜上に、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)及び金(Au)から選ばれた少なくとも一種の物質からなる貴金属膜が形成されていることを特徴とする貴金属膜被覆高分子基体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/20 A
, C23C 14/48 D
