特許
J-GLOBAL ID:200903011403265400
基板表面の平坦度測定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木下 茂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-238016
公開番号(公開出願番号):特開2000-055641
出願日: 1998年08月10日
公開日(公表日): 2000年02月25日
要約:
【要約】【課題】 大型の被測定基板の平坦度を高精度で測定することが可能な平坦度測定装置を提供すること。【解決手段】 縦型定盤3の基準平面4と、保持機構21により板面が垂直状態となるように保持された被測定基板Pとの間に、垂直面内において移動可能になされた非接触型距離測定センサが配置される。第1のセンサにより縦型定盤3の基準平面4との距離を測定し、第2のセンサにより被測定基板Pの板面との距離を測定して、縦型定盤の面を基準として被測定基板Pの板面の各部における平坦性を等高線状に把握する。したがって、測定センサを搭載するヘッド駆動系などの機構要素が測定精度に影響を与えることはなく、大型液晶用石英ガラス製フォトマスク等に代表される基板表面の平坦度を高精度で測定することが可能となる。
請求項(抜粋):
表面が平滑状態に仕上げられた基準平面を有し、この基準平面の面方向がほぼ垂直状態となるように配置された縦型定盤と、被測定基板の板面がほぼ垂直状態となるように被測定基板を保持する保持機構と、前記縦型定盤の基準平面と、前記保持機構によって保持された被測定基板の間に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面との距離および前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された各非接触型距離測定センサと、前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板表面の平坦度を演算する演算手段とを具備したことを特徴とする基板表面の平坦度測定装置。
IPC (2件):
G01B 11/30 101
, G01B 21/30 101
FI (2件):
G01B 11/30 101 A
, G01B 21/30 101 F
Fターム (36件):
2F065AA22
, 2F065AA47
, 2F065BB01
, 2F065CC17
, 2F065CC25
, 2F065DD03
, 2F065DD11
, 2F065EE05
, 2F065FF11
, 2F065FF61
, 2F065FF67
, 2F065MM07
, 2F065PP03
, 2F065PP11
, 2F065QQ29
, 2F065SS13
, 2F069AA44
, 2F069AA54
, 2F069BB13
, 2F069BB15
, 2F069CC06
, 2F069DD19
, 2F069DD30
, 2F069EE26
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069GG58
, 2F069GG59
, 2F069GG63
, 2F069GG74
, 2F069HH09
, 2F069JJ07
, 2F069MM01
, 2F069MM14
, 2F069NN09
, 2F069QQ05
引用特許:
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