投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-007834
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198474
出願日： 1992年01月20日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 2次光源変調フィルタの交換を要することなく、各種のパターンに対して十分なフォーカスマージンを確保することができ、パターン転写の効率向上をはかり得る投影露光装置を提供すること。【構成】光源11からの光を集光する第1集光光学系12と、第1集光光学系12で集光された光を均一化する均一化光学系13と、均一化光学系で均一化された光を集光してマスク17に照射する第2集光光学系16と、マスク17を透過した光をウェハ19上に投影する投影光学系18とを備えた投影露光装置において、マスク17を照明する均一化光学系13の出射側の2次光源位置14に、2次光源の射出面内強度分布が周辺部と中央部の両者がその中間部分に対して大となる光源変調フィルタ15を設置したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介してウェハ上に投影露光する投影露光装置において、前記マスクを照明する2次光源位置に、2次光源の射出面内強度分布が周辺部と中央部の両者がその中間部分に対して大となる2次光源変調フィルタを設置してなることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

光ビーム作成方法、装置、それを用いた寸法測定方法、外観検査方法、高さ測定方法、露光方法および半導体集積回路装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-276011 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-179958
特開平4-370991

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