特許
J-GLOBAL ID:200903011503370520

液晶表示装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-012290
公開番号(公開出願番号):特開平11-212116
出願日: 1998年01月26日
公開日(公表日): 1999年08月06日
要約:
【要約】【課題】プラスチックやポリマーフィルム等の軽量基板上に高性能なTFTアクティブマトリクスを形成する手段を提供する。【解決手段】ガラスやシリコン等の耐熱性を有する基板上に通常のプロセスでTFTアクティブマトリクス素子を形成した後、プラスチック等の所望の基板に貼り合わせ、この基板を土台としてガラスあるいはシリコン基板を化学研磨等で除去してプラスチック等の所望の基板上にプロセス温度に制約されることなく高性能なTFTアクティブマトリクス素子を形成する。
請求項(抜粋):
少なくとも一方が透明な一対の基板と、この基板に挟持された液晶層を有する液晶表示装置の製造方法において、第1の基板上に画素電極および外部接続端子を形成する工程と、前記画素電極および外部接続端子上に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜上に複数の走査配線と、これに交差する複数の信号配線と、前記走査配線と信号配線の交差点近傍にマトリクス状に配置された複数の半導体素子とからなるアクティブマトリクス素子を形成する工程と、前記アクティブマトリクス素子と第2の基板を接合する工程と、前記第1の基板を除去する工程と、前記第2の基板に対向するように第3の基板を形成し、これらの間に挟持された液晶層を形成する工程を少なくとも有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1333 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 29/786
FI (4件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1333 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 29/78 612 B
引用特許:
審査官引用 (3件)

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