特許
J-GLOBAL ID：200903011627754806
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234842
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094393
出願日： 1993年09月21日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 レチクルパターンや照明条件の変更直後でも良好な結像特性でパターン露光を行うことを可能とする。【構成】 主制御装置50は、ターレット板7等によって設定された照明条件でレチクルRのパターンをウェハWに露光している間、その照明条件に対応した演算パラメータを用いて投影光学系PLの結像特性の変化量を計算する。駆動素子制御部53は、投影光学系PLの結像特性が所定値に維持されるように、先に計算された変化量に基づいて駆動素子25、27、29を駆動制御する。さらに主制御装置50は、レチクルRのパターン、又は照明条件を変更したとき、変更前に投影光学系PLに蓄積されたエネルギー量に応じて生じる結像特性の不連続量に基づいてその変化量を計算、補正する。【効果】 照明条件変更後直ちに露光を開始してスループットの低下を防止できる。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光をマスクに照射する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に結像投影する投影光学系と、該投影光学系の結像特性を可変とする第1調整手段とを備えた投影露光装置において、前記照明光学系中の前記マスクのパターンに対するフーリエ変換面内での前記照明光の強度分布を変化させることにより、前記マスクのパターンに対する照明条件を可変とする第2調整手段と;該第2調整手段によって設定された照明条件のもとで前記マスクのパターンを前記感光基板に露光している間、所定の計算パラメータを用いて前記投影光学系の結像特性の補正量を計算する演算手段と;前記投影光学系の結像特性が所定値に維持されるように、前記補正量に基づいて前記第1調整手段を制御する制御手段と;前記マスクのパターンと前記照明条件との少なくとも一方を変更して前記感光基板に対する露光を行うとき、該変更前の露光によって前記投影光学系に蓄積されたエネルギー量に基づいて、前記制御手段によって設定される結像特性を補正する補正手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
