特許

J-GLOBAL ID：200903011639629446

電極形成方法、電極及び太陽電池

発明者： 尾崎 亮 ,  太田 瞳 ,  福村 弘之 ,  高場 芳朗 ,  小松 雄爾 ,  布居 徹
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-167293
公開番号（公開出願番号）：特開2005-347628
出願日： 2004年06月04日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：

【課題】スクリーンマスクを不要とし、かつ高アスペクト比を備えた電極の形成方法、この形成方法を用いて形成された電極及びこの電極を有している太陽電池を提供する。【解決手段】本発明の受光面電極形成に用いる装置は、X軸及びY軸に沿って移動することができるとともにシリコン基板2を載置・固定することができるテーブル1と、テーブル1の上方に角度可変部品7で固定されたノズル3と、導電性電極材料すらなるペースト5を封入したシリンジ10とが、保持されてなる。そして、シリンジ10の内面に密に接しながら移動することのできるピストン6、ノズル3とシリンジ10とに接続された耐圧性チューブ8、ピストン6を移動可能に加圧することのできる加圧機構9で構成された装置を用いて、シリコン基板2の表面に、線状パターンを、その線幅がノズル3の吐出口内径よりも小さくなるように描画する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

基板の表面に細線状電極を形成するためのペーストを吐出口から吐出するノズルを、その中心軸線が基板の表面に対して所定の傾斜角度で傾斜するように、かつ、その吐出口が基板の表面に近接するように配置し、ノズルからペーストを吐出して基板の表面に細線パターンを描画するに際し、ノズル及び基板を細線パターンの描画方向へ相対移動させるとともに、ノズル及び基板の相対移動速度を調整することで、細線パターンの線幅がノズルの吐出口内径よりも小さくなるように描画することを特徴とする電極形成方法。

IPC (1件)：

H01L31/04

FI (1件)：

H01L31/04 Z

Fターム (7件)：

5F051AA02 ,  5F051DA03 ,  5F051FA03 ,  5F051FA04 ,  5F051FA10 ,  5F051FA30 ,  5F051HA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭58-27375号公報
  
• 太陽電池の電極形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-182266   出願人：シャープ株式会社
• 光電池のための基板にメタライゼーションパターンを適用する方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-595386   出願人：スティックティング・エネルギーオンデルズーク・セントルム・ネーデルランド

審査官引用 (4件)

• 特表平5-506753
  
• 特開昭58-027375
  
• 特表平5-506753
  
• 特開昭58-027375