特許
J-GLOBAL ID：200903011680246650

ホログラム素子

発明者：
山中 豊

山中 豊 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 西村 征生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-099463
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292617
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】 凹凸形状の周期に相応する適度な高低の凹凸を有する、異方性材料を用いないホログラム素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 全体として透過光の偏光成分間の位相差が異なる複数の領域A、Bが基板11上に略周期的に形成された、入射光の偏光方向に依存して光路を切り替えるホログラム素子において、略周期的に形成された複数の領域A、Bの一周期(領域C)内で、少なくとも一つの領域Aが入射光の波長以下の一次元周期構造を有する凹凸形状12の形成領域であり、かつ凹凸形状12の形成領域には屈折率の異なる等方性媒質からなる多層膜13が屈折率の配列が周期的になるように積層されていることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
入射光の偏光方向に依存して透過光の偏光成分間に位相差が生じる領域を含み、かつ全体として前記透過光の偏光成分間の位相差が異なる複数の領域が基板上に略周期的に形成された、前記入射光の偏光成分に依存して異なる回折効率を有するホログラム素子において、前記略周期的に形成された複数の領域の一周期内における少なくとも一つの前記領域が前記入射光の波長以下の一次元周期構造を有する凹凸形状の形成領域であり、かつ該凹凸形状の形成領域では屈折率の異なる等方性媒質からなる多層膜が該屈折率の配列が周期的になるように積層されていることを特徴とするホログラム素子。
IPC (3件)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32
FI (3件)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32
Fターム (17件)：
2H049AA25 ,  2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA48 ,  2H049AA53 ,  2H049AA57 ,  2H049AA59 ,  2H049AA63 ,  2H049AA66 ,  2H049BA45 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BC25 ,  2H049CA05 ,  2H049CA23 ,  2H049CA30
引用特許：
審査官引用 (3件)

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