特許
J-GLOBAL ID：200903011701305903
光学マスク及びその修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-042814
公開番号（公開出願番号）：特開平5-241321
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】位相シフトマスクの欠陥修正において、不定形の欠陥形状に対応し、精度の高い修正を可能とする光学マスクとその欠陥修正方法を提供する。【構成】位相シフターと遮光パターンとの間にエッチングストッパ層を設けるか、エッチングストッパ層の上層にマスク製造工程に含まれる洗浄工程に耐性を持つ保護膜を成膜するか、欠陥部を集束イオンビームで加工する。この際、集束イオンビームに反応性ガスを併用することでエッチングストッパ層で加工を停止するか、集束イオンビームでの加工後、エッチングストッパ層を選択的に除去するか、どちらかの方式を選択する。【効果】マスク製造工程に含まれる洗浄工程によるエッチングストッパ層溶解を回避し、位相シフター下層にストッパ層を残せるため、不定形の欠陥形状に対しても平坦な最終加工底面が得られる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光パターンを形成し、特定の開口部に露光光の位相を変える位相シフターを設けた投影光学系用マスクにおいて、上記位相シフターと遮光パターンとの間に露光光を透過するエッチングストッパー膜を設けたことを特徴とする光学マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (6件)
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特開平2-078216
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特開平3-267940
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特開平3-196041
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