特許

J-GLOBAL ID：200903011726069910

原版、原版保持装置およびこれを用いた露光装置ならびにディバイス製造方法

発明者： 原 真一 ,  千葉 裕司 ,  水澤 伸俊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045495
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211872
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 マスクチャック等に保持されたマスクの変形等を補正する。【解決手段】 マスクチャック10は、マスクE1 をXY平面内で位置決めするための位置決めブロック14,15および押圧ブロック16,17と、マスクE1 を3点クランプ方式によってZ軸方向にクランプするクランプユニット13a〜13cを有する。位置決めブロック14,15および押圧ブロック16,17は、それぞれ、マスクE1 のマスクフレームH1 の側縁を吸着して押したり引いたりすることでメンブレンM1 の外形を変化させるパターン補正装置21〜24を支持する。

請求項（抜粋）：

開口部を有するフレーム部材と、該フレーム部材の前記開口部に配設されたメンブレンを有し、前記フレーム部材が、原版保持装置のパターン補正手段に着脱自在に結合する結合部を備えておりこれを介して前記パターン補正手段から伝達される圧縮力または引張力によって前記メンブレンを変形させるように構成されていることを特徴とする原版。

IPC (4件)：

G03F 9/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 9/00 H ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 M

引用特許：

審査官引用 (1件)

• マスク、マスク支持方法、マスク支持機構、並びにこれを用いた露光装置やデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-007421   出願人：キヤノン株式会社