特許

J-GLOBAL ID：200903011780246674

重ね合わせ露光方法と露光装置

発明者： 成廣 充
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-069573
公開番号（公開出願番号）：特開2003-272996
出願日： 2002年03月14日
公開日（公表日）： 2003年09月26日
要約：

【要約】【課題】 ビームを使用して露光するパターン間の重ねあわせ精度を向上させる露光方法と露光装置を提供する。【解決手段】 図中点線は本発明により追加された処理の流れを示す。第1層露光時に、複数回基準マーク検出を行ってその位置と検出時刻をマーク位置記憶部54に記憶しておく。また、第1層露光時の露光時刻は位置ずれ算出単位描画時刻記憶部61に記憶しておく。マーク位置記憶部54の記憶データと位置ずれ算出単位描画時刻記憶部61の記憶データとに基づいて、第1層露光時のビームドリフトによるチップ内各部での位置ずれを位置ずれ算出部62で算出し位置ずれ記憶部63に記憶しておく。第2層露光時にこれを利用し、第2層の描画位置を、設計位置から、第1層露光時に発生したビームドリフトによる位置ずれを補正した位置に変更して露光する。

請求項（抜粋）：

ビームを使用して第1の層を露光しその後前記第1の層の上層にこれに重ね合わせて第2の層をビームを使用して露光する際に、第1の層の露光の工程中に発生した位置ずれを算出し、第2の層の露光時にこの位置ずれを補正して露光することを特徴とする重ね合わせ露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 529

Fターム (15件)：

5F046BA07 ,  5F046EB01 ,  5F046EB03 ,  5F046ED02 ,  5F046FC04 ,  5F056AA01 ,  5F056AA21 ,  5F056BD02 ,  5F056BD03 ,  5F056BD05 ,  5F056CA02 ,  5F056CB22 ,  5F056CC04 ,  5F056CC08 ,  5F056CC09

引用特許：

審査官引用 (1件)

• パタン転写方法及び固体素子の製造方法ならびにこれを用いた固体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-282889   出願人：株式会社日立製作所