磁気記録ディスク製造方法及び磁気記録ディスク製造装置並びにインライン型基板処理装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：保立浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-024334
公開番号（公開出願番号）：特開2001-216633
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】磁気ヘッドと記録層との距離であるスペーシングの減少に伴う製造プロセス上の諸課題を解決する。【解決手段】無終端状の搬送路1上の複数の真空チャンバーの一つは記録層用の磁性膜を作成する磁性膜作成チャンバー14であり、無終端状の別の搬送路2上の複数の真空チャンバーの一つは潤滑層形成チャンバー25であり、磁性膜作成後の基板9は、第三の搬送路3上の真空チャンバー31を経由して大気に晒されることなく潤滑層形成チャンバー25に搬送される。磁性膜作成チャンバー14から潤滑層形成チャンバー25に搬送される間、基板9は、保護膜作成チャンバー15で保護膜が作成され、第一クリーニングチャンバー22でプラズマアッシングによりクリーニングされ、第二クリーニングチャンバー23でガスブローによりクリーニングされ、バーニッシュチャンバー24で真空中でバーニッシュされる。潤滑層形成後に基板9は後処理チャンバー26に搬送され、潤滑層の付着性及び潤滑性を調節する後処理が真空中で行われる。

請求項（抜粋）：

基板の表面に記録層用の磁性膜を作成する磁性膜作成チャンバーと、磁性膜作成後に基板の表面に潤滑層を形成する潤滑層形成チャンバーとの間で、基板を大気に晒すことなく搬送する動作を含むことを特徴とする磁気記録ディスク製造方法。

Fターム (8件)：

5D112FB21 , 5D112FB22 , 5D112GA09 , 5D112GA13 , 5D112GA17 , 5D112GA19 , 5D112GA22 , 5D112GA25

引用特許：

審査官引用 (8件)

磁気記録媒体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-254284 出願人：花王株式会社
情報記録ディスク用成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-050191 出願人：アネルバ株式会社
磁気記録媒体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-253360 出願人：花王株式会社

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