特許

J-GLOBAL ID：200903011915423164

パターンの高精度印刷方法

発明者： サンドストレム、トルビョルン ,  マーティンソン、ハンス
出願人/特許権者： マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-517032
公開番号（公開出願番号）：特表2006-527418
出願日： 2004年06月14日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：

本発明は、改善された明確な縁を有するパターンを印刷する方法を含む。微小パターンを印刷する方法は、SLMを提供する動作と、変調要素の異なるカテゴリを有する画素配列パターンを提供する動作とを含み、カテゴリは、複素振幅の位相について異なる。

請求項（抜粋）：

高精度で微小パターンを印刷する方法において、 変調器要素の配列を有するSLMを提供する動作と、 電磁放射源を提供して、前記SLMの前記変調要素のピッチの半分より長いコヒーレンス長を有する部分コヒーレント照明で前記SLMを照明する動作と、 少なくとも1つの変調器要素により負の複素振幅を形成する動作とを含む、微小パターンを印刷する方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/20 505 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 529

Fターム (16件)：

2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097BB10 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA17 ,  5F046BA07 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB18 ,  5F046CC01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 変調装置の設計を改良したパターン・ジェネレータ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-534921   出願人：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
• 画像表示装置及び方法、並びに、画像処理装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-159021   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 点欠陥検出装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-036660   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平3-160877