変調装置の設計を改良したパターン・ジェネレータ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-534921
公開番号（公開出願番号）：特表2002-506236
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】本発明は、フォトマスク、表示パネル、または、マイクロオプティカル装置などの放射に対して感度の高い加工品にパターンを生成する装置に関する。本装置は、放射源と、多数の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)と、投射系と、前記変調装置を制御する電子データ処理及び伝送システムと、前記加工品を移動させる高精度機械システムと、電子制御システムとから成る。詳しくは、駆動信号により、画素を3つ以上の状態に設定することが可能であり、中間変調状態がパターン・フィーチャーのエッジに沿った画素に使用される。前記変調素子の設計と前記露光方法は、異なる位置および/または異なる方向を向いたパターン・エッジでも、前記投射系の開口部絞りにおいて対称性を得るうえで適している。

請求項（抜粋）：

フォトマスク、表示パネル、またはマイクロオプティカル装置などの光の放射に対して感度の高い加工品にパターンを作成する装置において、該装置が、超紫外線(EUV)から赤外線(IR)までの波長範囲にある光を放射する光源と、前記放射によって照射されるようにされた、多重の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)と、前記加工品に前記変調装置の画像を生成する投射系と、書き込まれるべき前記パターンのデジタル表現を受信して、該パターンを変調装置用信号に変換し、前記信号を該変調装置に送信する電子データ処理及び伝送システムと、前記加工品および/または前記投射系の相互に対する位置付けを行なう高精度機械システムと、前記加工品の位置と、前記信号の前記変調装置への送信と、前記放射の強度を制御して、前記パターンを前記加工品に印刷できるようにする電子制御システムとを有し、前記駆動信号および前記変調素子が、2よりも多く、好ましくは3よりも多い多数の変調状態を生成するようにされていることと、中間変調状態がパターン・フィーチャーのエッジに沿った画素に使用され、前記変調素子の設計と前記露光方法が、異なる位置および/または異なる方向を向いたパターン・エッジでさえも、前記投射系の開口部絞りにおいて対称性を得るのに適していることを特徴とする装置。

IPC (5件)：

G02B 26/08 , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 26/08 E , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/30 519

Fターム (19件)：

2H041AA13 , 2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AC06 , 2H041AZ05 , 2H095BB01 , 2H095BB12 , 2H095BB31 , 2H097BA10 , 2H097BB10 , 2H097EA01 , 2H097GB00 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 5F046AA05 , 5F046AA25 , 5F046CB05 , 5F046CB18 , 5F046DA11

引用特許：

審査官引用 (7件)

パターン発生装置用のラスタライザ
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-511191 出願人：イーテック・システムズ・インコーポレーテッド
電子線露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-193799 出願人：富士通株式会社
特開昭62-249165

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