超純水製造用膜分離装置の洗浄方法及び洗浄装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内山充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-224749
公開番号（公開出願番号）：特開2004-066015
出願日： 2002年08月01日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】電子材料の製造工場などで使用される超純水中へのアミンの溶出を効果的に防止し、純度の極めて高い超純水を安定して供給することができる超純水製造用膜分離装置の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【解決手段】粒径0.05μm以上の微粒子数が1個/mL以下、TOC濃度が2μgC/L以下、抵抗率が18.2MΩ・cm以上の超純水を洗浄水とし、該洗浄水を超純水製造用膜分離装置に通水する通水工程と、膜分離装置に洗浄水を保持したまま通水を停止する浸漬工程と、膜分離装置から洗浄水を排出する排出工程とを有する洗浄サイクルを繰り返す超純水製造用膜分離装置の洗浄方法、及び、洗浄水供給配管、透過水排出配管、濃縮水排出配管を有し、洗浄水供給配管に弁と流量調整手段が、透過水排出配管に弁が、濃縮水排出配管に弁がそれぞれ設けられるとともに、洗浄水供給配管に分岐して弁を有するブロー水配管が接続されてなる超純水製造用膜分離装置の洗浄装置。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

粒径0.05μm以上の微粒子数が1個/mL以下、TOC濃度が2μgC/L以下、抵抗率が18.2MΩ・cm以上の超純水を洗浄水とし、該洗浄水を超純水製造用膜分離装置に通水する通水工程と、該膜分離装置に洗浄水を保持したまま通水を停止する浸漬工程と、該膜分離装置から洗浄水を排出する排出工程とを有する洗浄サイクルを繰り返すことを特徴とする超純水製造用膜分離装置の洗浄方法。

IPC (3件)：

B01D65/06 , B01D65/02 , C02F1/44

FI (3件)：

B01D65/06 , B01D65/02 520 , C02F1/44 J

Fターム (21件)：

4D006GA03 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006HA01 , 4D006JA39Z , 4D006JA55Z , 4D006JA63Z , 4D006JA71 , 4D006KA81 , 4D006KC13 , 4D006KC14 , 4D006KC20 , 4D006KE11R , 4D006KE19R , 4D006KE28R , 4D006KE30R , 4D006MA01 , 4D006MC62X , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PC01

引用特許：

審査官引用 (5件)

逆浸透膜および逆浸透膜分離素子の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-228752 出願人：東レ株式会社
特開平4-305231
特開平4-305231

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